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全氟辛基三氯硅烷涂膠機,抗粘劑PFTS烘箱
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全氟辛基三氯硅烷涂膠機,抗粘劑PFTS烘箱主要用于納米壓印光刻(NIL)應用,防粘涂層的制備,可用于光刻工藝中HMDS增粘劑涂膠;以及功率半導體,LED,MEMS,半導體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。

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冷熱沖擊測試機,冷熱循環氣流儀
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冷熱沖擊測試機,冷熱循環氣流儀在短的時間內(約10秒)檢測樣品因高低溫冷熱沖擊()-65℃~220℃)所引起的化學變化和物理傷害,減少測試與驗證時間,快速提高產品研發和生產效率。廣泛應用于通信、半導體、芯片、傳感器等領域。

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快速熱處理退火爐,半導體RTP快速退火 爐
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快速熱處理退火爐,半導體RTP快速退火爐可用于硅及其他化合物材料離子注入后的退火,硅化物形成,歐姆接觸制備以及快速氧化,快速氮化等方面。該設備具有很好的長時間工作穩定性以及快速升降溫,慢速升降溫功能

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不銹鋼無塵烤箱,雙層無塵烘箱
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不銹鋼無塵烤箱,雙層無塵烘箱應用于目前關鍵的半導體電子行業(如硅片干燥,堅膜烘烤,裝片機后道烘烤,塑封后烘烤,治具烘烤等),另外,雙層無塵烘箱還在LED制造行業中用于烘烤玻璃基板、無機材料行業中用于材料高精度工序。

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無氧烘箱,無氧化烘箱
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無氧烘箱,無氧化烘箱在半導體集成電路制造過程中,晶圓表面預處理、涂膠、曝光前后的烘焙即曝光后烘烤(PostExposureBake,PEB)、對準、顯影、顯影后烘焙等因素都會對光刻工藝效果帶來顯著影響

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百級無塵烘箱,不銹鋼無塵烤箱
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百級無塵烘箱,不銹鋼無塵烤箱用于IC生產中前烘、后烘烤、堅膜、裝片機后端烘烤、塑封封裝烘烤、光刻膠固化、治具干燥、薄膜烘烤、硅片干燥等工藝。

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有降溫功能真空烘箱,300度可降溫真空烤箱
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有降溫功能真空烘箱,300度可降溫真空烤箱用于鍵合預處理,晶圓,芯片,電容,電池,封裝,光刻膠固化,PI固化等

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