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硅片清洗設備,硅片全自動清洗機

硅片清洗設備,硅片全自動清洗機

簡要描述:

硅片清洗設備,硅片全自動清洗機應用于集成電路,MEMS器件,微波器件,先進封裝等工藝。去膠清洗設備,顯影清洗設備,酸堿刻蝕機。也可用于零部件清洗,石英管道清洗,外延片清洗(砷化鎵,氮化鎵,碳化硅,鈮酸鋰等

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硅片清洗設備,硅片全自動清洗機的重要性
      半導體器件生產中硅片須經嚴格清洗。微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質,包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態,有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等,嚴重影響少數載流子壽命和表面電導;堿金屬如鈉等,引起嚴重漏電;顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌、微生物、有機膠體纖維等,會導致各種缺陷。
硅片清洗設備,硅片全自動清洗機?的應用
      集成電路,MEMS器件,微波器件,先進封裝等工藝。去膠清洗設備,顯影清洗設備,酸堿刻蝕機。也可用于零部件清洗,石英管道清洗,外延片清洗(砷化鎵,氮化鎵,碳化硅,鈮酸鋰等

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