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無塵烤箱廠家
無塵烤箱廠家

無塵烤箱廠家無塵等級:Class100、10;溫度范圍:RT+10~300℃;用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤

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清潔烤箱,無塵烤箱
清潔烤箱,無塵烤箱

清潔烤箱,無塵烤箱用于IC生產過程中極為重要的光刻工藝中預烘烤(軟烘),脫水烘烤,涂膠后的堅膜烘烤(硬烘);也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、OLED、醫藥、實驗室等生產及科研部門。

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無塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹脂(PI)烤箱
無塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹脂(PI)烤箱

為了獲得良好的聚酰亞胺性能,非常好的溫度均勻性,低氧含量和低顆粒數是非常重要的,無塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹脂(PI)烤箱腔內的氣體保持相當干凈(100級),良好的溫度均勻性。通過氮氣吹掃可將氧氣含量降低至20ppm以下。這保證了非光敏聚酰亞胺的優異工藝結果。

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無塵室烤箱,半導體無塵烤箱
無塵室烤箱,半導體無塵烤箱

無塵室烤箱,半導體無塵烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤;也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實驗室等生產及科研部門;HMDS無塵烤箱可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

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無塵室干燥箱,試驗用百級烤箱
無塵室干燥箱,試驗用百級烤箱

無塵室干燥箱,試驗用百級烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤、工裝夾具烘烤;也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實驗室等生產及科研部門;也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。

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加工半導體用烤箱, SECS / GEM無塵烤箱
加工半導體用烤箱, SECS / GEM無塵烤箱

加工半導體用烤箱,SECS/GEM無塵烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后固化、堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤;也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實驗室等生產及科研部門;可以使用TCP/IP(使用HSMS標準,SEMIE37)或基于RS-232的協議與支持GEM的主機進行通信。通常這兩種協議都受支持。每臺設備都可以使用由GEM

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無塵烤箱
無塵烤箱

無塵烘箱,不銹鋼無塵烤箱無塵等級:Class100、10;溫度范圍:RT+10~300℃;用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤

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